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ROTARIS是全自动、高精度、超高真空的溅射镀膜平台。可处理200mm~300mm尺寸的晶圆。它的主沉积腔RSM(Rotating-Substrate-Module)最多可配有12个直径为100mm。ROTARIS具有衬底旋转沉积技术,并且衬底在沉积过程中可以倾斜。共溅射最多可实现4靶共溅射,配有直流溅射,脉冲直流溅射,射频溅射和原位校正磁场。
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