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IMC200中等束流离子注入设备

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IMC200中等束流离子注入设备

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功能概述
技术指标
安装条件

◆适用于1mm2小样片至6英寸晶圆片,

可选择自动或手动装载。

◆注入离子能量 200KeV

双电荷注入可达到400KeV

◆多种离子源可以选择

Bernas、Freeman、溅射、液态源……

◆超过60种元素都可以实现离子注入

◆多电荷注入能力

◆可实现冷注入和热注入

未找到相应参数组,请于后台属性模板中添加
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