IMC200中等束流离子注入设备
TheIMCseriesaddressesthelackofmodernequipmentfornewtypeofproductionimplantsandadvancedresearch. TheIMCtoolhasbeendesignedtobeeasytouse, easytomaintain,andwithhighreliability.Offers× Upto4activegasli
所属分类：
半导体
离子注入设备
案例详情
◆适用于1mm2小样片至6英寸晶圆片，
可选择自动或手动装载。
◆注入离子能量 200KeV
双电荷注入可达到400KeV
◆多种离子源可以选择
Bernas、Freeman、溅射、液态源……
◆超过60种元素都可以实现离子注入
◆多电荷注入能力
◆可实现冷注入和热注入
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