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MEMSLAB研发型PECVD

◆直接式等离子体，低射频◆无夹痕，薄膜颜色均匀◆每次最多25片晶圆◆最大兼容200mm晶圆◆原位清洁◆用于SiN、SiON、a:Si、SiC、SiCxNY

所属分类：

扩散炉

案例详情

◆直接式等离子体，低射频

◆无夹痕，薄膜颜色均匀

◆每次最多25片晶圆

◆最大兼容200mm晶圆

◆原位清洁

◆用于SiN、SiON、a:Si、SiC、SiCxNY

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