MEMSLAB研发型PECVD
◆直接式等离子体,低射频◆无夹痕,薄膜颜色均匀◆每次最多25片晶圆◆最大兼容200mm晶圆◆原位清洁◆用于SiN、SiON、a:Si、SiC、SiCxNY
所属分类:
扩散炉
案例详情
◆直接式等离子体,低射频
◆无夹痕,薄膜颜色均匀
◆每次最多25片晶圆
◆最大兼容200mm晶圆
◆原位清洁
◆用于SiN、SiON、a:Si、SiC、SiCxNY
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