真空黑体

关键指标：◆用于低温或特殊环境的辐射源◆绝对温度范围从100K到425K◆使用真空环境下特殊应用的涂层和材料◆高热均匀性和发射率介绍：真空黑体是应用在低温或特殊真空环境下的红外参考源，同时它也融合了所有传统红外参考源的特性。在电控单元精确地控制下，它的工作温度范围非常宽泛。环境箱外的电控单元与环境箱内的真空黑体发射本体相连接，通过对热辐射和热传导方式的热损失的优化控制保证发射本体温度稳定可控。该

所属分类：

扩展面源黑体

案例详情

关键指标：

◆用于低温或特殊环境的辐射源

◆绝对温度范围从 100K 到 425K

◆使用真空环境下特殊应用的涂层和材料

◆高热均匀性和发射率

介绍：

真空黑体是应用在低温或特殊真空环境下的红外参考源，同时它也融合了所有传统红外参考源的特性。在电控单元精确地控制下，它的工作温度范围非常宽泛。

环境箱外的电控单元与环境箱内的真空黑体发射本体相连接，通过对热辐射和热传导方式的热损失的优化控制保证发射本体温度稳定可控。

该辐射体表面包含一独特的真空适用涂层，并有特殊排列结构的表面，从而得到极高的辐射率(可达 0.999)和热均匀性。发射本体表面温度通过已校准的高精度 Pt 传感器实时测量。