产品中心
此分类下没有子分类
MEMSLAB研发型PECVD

MEMSLAB研发型PECVD

◆直接式等离子体，低射频◆无夹痕，薄膜颜色均匀◆每次最多25片晶圆◆最大兼容200mm晶圆◆原位清洁◆用于SiN、SiON、a:Si、SiC、SiCxNY

查看详情

MEMSLAB直接式PECVD

MEMSLAB直接式PECVD

◆槽型管式扩散炉◆可用于扩散、LPCVD、氧化◆4个独立炉管◆每炉管可放200片晶圆◆最大可兼容200mm晶圆◆最佳的均匀性

查看详情

TUBESTAR研发型扩散炉

TUBESTAR研发型扩散炉

◆槽型管式扩散炉◆可用于扩散、LPCVD、氧化◆1-4个独立炉管◆每炉管可放50片晶圆◆占地面积小

查看详情

< 1 >