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◆槽型管式扩散炉◆可用于扩散、LPCVD、氧化◆1-4个独立炉管◆每炉管可放50片晶圆◆占地面积小
◆槽型管式扩散炉◆可用于扩散、LPCVD、氧化◆4个独立炉管◆每炉管可放200片晶圆◆最大可兼容200mm晶圆◆最佳的均匀性
◆直接式等离子体,低射频◆无夹痕,薄膜颜色均匀◆每次最多25片晶圆◆最大兼容200mm晶圆◆原位清洁◆用于SiN、SiON、a:Si、SiC、SiCxNY
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