离子注入工艺代工

量产代工服务◆标准注入工艺:为暂时没有注入机的客户或者需要增加产能的客户提供标准注入工艺的服务;◆Back-up:为客户提供备用机台,当客户产线意外停产,当晶圆尺寸需要升级时…… 研发代工服务◆离子注入工艺开发:为客户提供生产开发,测试和评估◆不同衬底材料,不同形状◆特殊离子注入◆冷/热注入,不同注入角度 SIC注入服务◆-80°C至+600°C注入◆适用于小样品至6”晶圆◆可注入Si、B、Al、

PULSION 等离子浸没式等离子注入设备

Plasmaimmersionionimplantationisaversatileprocesstechnologywithwideapplicationsinmicroelectronicsprocessing&materialsengineering.Offers× Simultaneousimplantationofthefullwafer× Ultralowenergy(downto30

Flex ion 200/400中束流离子注入设备

> 注入离子能量200KeV或400KeV双电荷注入可达到800KeV三电荷注入可达到1200KeV> IHC离子源> 扩大的注入离子装载能力    可同时配有4个2.2L气罐    可配有4路惰性气路> 注入离子的原子质量可达到218AMU> 同时具备所有IMC的特点

IMC200中等束流离子注入设备

TheIMCseriesaddressesthelackofmodernequipmentfornewtypeofproductionimplantsandadvancedresearch.  TheIMCtoolhasbeendesignedtobeeasytouse,  easytomaintain,andwithhighreliability.Offers× Upto4activegasli

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